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                          當前位置:首頁   >  產品中心  >  超級恒溫水浴槽系列  >  大容積恒溫水槽  >  CH107070升大容積恒溫水浴

                          70升大容積恒溫水浴

                          簡要描述:超級恒溫槽CH-1070的詳細資料:
                          超級恒溫槽CH-1070采用進口單片微處理器控制、自整定PID調節、進口鉑電阻(Pt100)測溫,控溫精度高、波動度??;儀器工作穩定可靠,操作方便安全。
                          廣泛適用于生物工程、醫藥、食品、化工、治金、石油等領域。為用戶提供高精度的,受控的,溫度均勻的恒定的恒溫場所,是研究院、高等院校、工廠實驗室、質檢部門等理想的恒溫水槽。

                          • 產品型號:CH1070
                          • 廠商性質:生產廠家
                          • 更新時間:2020-10-10
                          • 訪  問  量:506

                          詳細介紹

                          超級恒溫槽CH-1070技術參數  :

                          型    號CH-1070
                          溫度范圍(℃)室溫+10~100
                          溫度波動度(℃)± 0.05
                          控溫方式微機溫控、PID調節
                          顯示分辨率(℃)  0.01
                          內膽容積(L)70
                          開口尺寸(長×寬×深(mm)600×300 × 300
                          工作槽容積    780× 300 × 300
                          泵流量(L)6
                          功率(KW)6
                          泵循環方式 內循環

                          超級恒溫槽CH-1070產品特點:

                          1,具有先進的內循環/外循環泵系統,內循環保證溫度均勻恒定,外循環泵可把槽內被加熱液體通過環泵可以把槽內被恒溫液體外引建立第二恒溫場。

                          2 ,LED雙窗口分別數顯溫度測量值及溫度設定值,數顯分辨率0.01℃,觸摸按鍵操作方便。

                          3,測量值偏差補正功能,溫度精度可達0.1℃。

                          4,具有超溫保護功能,防止儀器失控;上限超溫報警,可自己設定,超出范圍,即刻報警。

                          5,內膽、臺面均為高質量不銹鋼,耐腐蝕,易清潔 ,儀器工作穩定可靠,操作非常方便.

                          可選配RS232或RS485通訊接口,實現數據傳輸進行遠距離控制。

                          可以選配程序控溫系統,其特點為:
                           大屏幕液晶顯示,軟件程序控制,可編輯時間/溫度曲線。
                           多段可編溫度、時間程序,控制升溫、恒溫、降溫過程,且升溫速度、降溫速度可按用戶要求設置自動控制。
                           編寫儲存30個溫度/時間段,每個程序可設置0~9999分鐘運行時間。
                           多種參數設定方式:方便快捷的輸入鍵、移位鍵和增鍵、減鍵,設定溫度/時間段及其他高級控制參數或直接調儲存的溫度/時間設定程序。

                          主要應用領域:

                          分析儀器:光譜儀、質譜儀、粘度計、旋光儀、發酵裝置、旋轉蒸發儀等配套使用 。

                          真空獲得及醫療:分子泵、擴散泵、降溫毯 、X光機核磁共振加速器等配套使用 。

                          工業設備及其他:激光設備、真空鍍膜設備、生物制藥、模具機床、真空爐、焊接機反應釜等配套使用。

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